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柯岷國際貿(mào)易(上海)有限公司


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球差場發(fā)射透射電子顯微鏡 HF5000

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地上海市

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更新時間:2023-09-28 13:29:35瀏覽次數(shù):196次

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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:32條

所在地區(qū):上海上海市

聯(lián)系人:宋先生

產(chǎn)品簡介

200 kV相差校正TEM/STEM,平衡了空間分辨率和傾斜、分析性能。通過單極片實現(xiàn)0.078 nm的STEM空間分辨率和高樣品傾斜度、高立體角EDX。透射電子顯微鏡除了延續(xù)了日立公司配備的具有掃描透射電子顯微鏡“HD-2700"的球面像差校正器的功能、自動校正功能,像差校正后的SEM圖像和對稱Dual SDD技術等特點。還融匯了透射電子顯微鏡HF系列中所積累的技術。對于包括用戶在內(nèi)的廣泛用戶,我們提供亞?級空間分辨率和高分析性能以及更多樣化的觀察和分析方法。

詳細介紹

1.標配日立生產(chǎn)的照射系統(tǒng)球差校正器(附自動校正功能)

2.搭載具有高輝度、高穩(wěn)定性的冷場FE電子槍

3.鏡體和電源等的高穩(wěn)定性使機體的性能大幅度提升

4.觀察像差校正SEM/STEM圖像的同時觀察原子分辨率SE圖像

5.采用側面放入樣品的新型樣品臺結構以及樣品桿

6.支持高立體角EDX*的對稱配置(對稱Dual SDD*)

7.采用全新構造的機體外殼蓋

8.配備日立生產(chǎn)的高性能樣品桿*

*選項


◆ 高輝度冷場FE電子槍×高穩(wěn)定性×日立制球面像差校正器

以長年積累起來的高輝度冷場FE電子源技術為基礎,進行優(yōu)化,進一步實現(xiàn)電子槍的高度穩(wěn)定性。

此外,還更新了鏡體,電源系統(tǒng)和樣品臺,以支持觀察亞?圖像,并提升了機械和電氣穩(wěn)定性,然后與日立公司的球差校正器結合使用。

不僅可以穩(wěn)定地獲得更高亮度更精密的探頭,而且自動像差校正功能可以實現(xiàn)快速校正,從而易于發(fā)揮設備的固有性能。使像差校正可以更實用。

日立掃描電子顯微鏡


Si(211)單晶體HAADF-STEM圖像(左)和圖像強度曲線分布(右下)、FFT功率譜(右上)


◆  支持高立體角EDX*的對稱Dual SDD*

支持雙重配置100 mm2 SDD檢測器,以實現(xiàn)更高的靈敏度和處理能力進行EDX元素分析。

由于第二檢測器位于檢測器的對面位置,因此,幾乎不會因為樣品傾斜,導致X射線中的信號檢測量發(fā)生變化。所以,即使是結晶性樣品,也不用顧忌信號量,可按照樣品的方向與位置進行元素分析。

此外,對于電子束敏感樣品、低X光輻射量的樣品,除了原子列映射,在低倍、廣視野的高精細映射等領域也極為有效。

日立掃描電子顯微鏡

GaAs(110)的原子柱EDX映射


◆ 像差校正SEM圖像/STEM圖像 同時觀察

配有標配二次電子檢測器,可同時觀察像差校正SEM/STEM圖像。通過同時觀察樣品的表面和內(nèi)部結構,可以掌握樣品的三維構造。

在像差校正SEM圖像中,除了可以通過校正球差來提高分辨率之外,還可以獲取更真實地樣品表面圖像。

日立掃描電子顯微鏡

Au/CeO2催化劑的SEM/ADF-/BF-STEM圖像(上段)和Au粒子的高分辨率圖像(下段)

◆ 主要規(guī)格


日立掃描電子顯微鏡


◆ 機體尺寸/重量


日立掃描電子顯微鏡


◆ 安裝條件


日立掃描電子顯微鏡

購買之前,請設置預定安裝處測量振動、磁場和噪聲,如果超過容許值,請務必另行咨詢。

關于容許值,請另行咨詢。

備注*1:選項。*2:Windows是在美國以及其他國家的注冊的美國Microsoft Corp.商標。*3:規(guī)格、尺寸均根據(jù)廠家、型號和配置的不同而會有所不同。


◆ 布局示例


日立掃描電子顯微鏡

※使用上述配置(包含維護工具),整體設備總重量約為5,000kg。

※請檢查地面強度(kg/m2)>3×設備總重量(kg)/占地面積(m2)。



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