技術(shù)參數(shù)：
1 本底真空：10-7 Torr；
2 單基片設(shè)計(jì)，尺寸可定制；
3 基片可旋轉(zhuǎn)并加熱：300℃/500℃/800℃；
4 濺射：1-3支磁控濺射靶槍，可共濺射；
5 電子束蒸發(fā)：4-6坩堝
6 熱蒸發(fā)：最多6蒸發(fā)源，包括有機(jī)物蒸發(fā)源；
7 可連接手套箱
深圳海創(chuàng)德科技有限公司成立于2012年，由數(shù)位理工科博士創(chuàng)辦，團(tuán)隊(duì)成員均為理工科博士和碩士，具有高水平的專業(yè)水準(zhǔn)。公司致力于半導(dǎo)體微加工及分析設(shè)備的銷售和安裝服務(wù)，產(chǎn)品覆蓋薄膜制備，物性測量和表面分析。經(jīng)營的主要產(chǎn)品如下：1. 磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、PECVD、LPCVD、ALD、RIE、ICP、RTP、涂膠機(jī)和熱板等薄膜技術(shù)相關(guān)的設(shè)備；2. 美國Kimball Physics的電子槍、離子槍、真空腔體和熒光屏等部件；美國OCI的LEED和AES等各種真空組件；美國MicroXact的真空、低溫和磁場等數(shù)種探針臺；3. 我們還提供上述設(shè)備的配套部件及耗材，如直流和射頻電源、靶材、探針、光刻膠和ALD耗材等。我們的產(chǎn)品性價(jià)比高，品質(zhì)精良，性能，在歐美及中國臺灣地區(qū)具有的口碑，國內(nèi)眾多的科研院所和大學(xué)均對我們的產(chǎn)品報(bào)以好評。我們期待以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品，良好的服務(wù)和專業(yè)的技術(shù)為更多的客戶提供解決方案！期待與您的合作！
x射線熒光分析儀
手動鍍膜系統(tǒng) 產(chǎn)品信息
手動磁控濺射系統(tǒng)適用于本科生教學(xué)，研究生科研訓(xùn)練，也可以應(yīng)用于科研工作。該款設(shè)備適用于磁控濺射，也可以裝配電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)源等，用戶可根據(jù)需求來選擇配備。
